Hệ thống máy quang phổ phát xạ ICP-OES 5800 ICP-OES Agilent

Hệ thống quang phổ phát xạ phân tích đa nguyên tố kim loại phá hủy mẫu

Hãng: Agilent, Mỹ

Mã: 5800

Liên hệ tư vấn và bán hàng tại Việt Nam: Thiết bị phân tích AAS, ICPOES, ICPMS - 0983978425 - Mail: [email protected]

Agilent 5800 ICP-OES Instrument là một quang phổ kế ICP được thiết kế cho các phòng thí nghiệm bận rộn muốn tiết kiệm thời gian lãng phí. ICP thông minh này, với hệ đa dạng các cảm biến, thuật toán và chẩn đoán được thêm vào để có thể xác định các vấn đề trước khi chúng xảy ra, tối đa hóa thời gian hoạt động và giảm thiểu số lượng mẫu bạn cần đo.

Không có máy quang phổ phát xạ quang học - plasma kết hợp cảm ứng nào khác (ICP-OES) có thể cung cấp cho bạn mức độ hiểu biết sâu sắc về cả mẫu và tình trạng thiết bị của bạn, vì vậy hãy để 5800 ICP-OES, với phần mềm ICP Expert mạnh mẽ, giúp bạn thực hiện đúng kết quả, lần đầu tiên, mọi lần.

Tìm hiểu thêm về các mẫu của bạn bằng cách sử dụng tính năng IntelliQuant độc đáo của Agilent. Thu thập dữ liệu từ toàn bộ dải bước sóng, IntelliQuant xác định các nhiễu quang phổ và đưa ra các đề xuất để đảm bảo bạn luôn nhận được câu trả lời phù hợp.

Theo dõi tình trạng thiết bị của bạn theo cách thông minh giúp giảm thời gian chết và chi phí bảo trì với các cảm biến và bộ đếm hướng dẫn người dùng khi cần bảo trì

Ngăn chặn thời gian lãng phí và chi phí khắc phục sự cố với tính năng Neb Alert liên tục theo dõi máy phun sương, cảnh báo cho bạn khi máy phun sương cần vệ sinh hoặc bị rò rỉ

ICP Expert bao gồm phân tích dữ liệu và các thuật toán thông minh giúp loại bỏ phỏng đoán từ việc phát triển phương pháp và tự động hóa khắc phục sự cố, bao gồm Chỉnh sửa nền được trang bị (FBC), Kỹ thuật điều chỉnh đường cong tự động nhanh (FACT), Chỉnh sửa liên yếu tố (IEC) và IntelliQuant

Giảm thời gian dừng làm sạch và đảm bảo ít thay thế tháp hơn với thiết kế tháp hướng thẳng đứng

Là ICP-OES nhỏ nhất hiện có, 5800 không chỉ tiết kiệm không gian. Bố trí quang học nhỏ gọn, do đó nhanh chóng làm sạch, giảm thời gian chờ đợi trước khi mẫu có thể được đo.

Tính năng: 

Hệ thống quang phổ Agilent 5800 ICP-OES là cuộc cách mạng trong phân tích ICP-OES - được thiết kế phân tích mẫu nhanh hơn, tiêu tốn ít khí hơn, thời gian warm-up ngắn hơn, cho hiệu năng cao với các nền mẫu khó nhất

Công nghệ cải tiến, độc quyền với thiết kế kiểu torch đứng cho phép đo chế độ dọc trục (axial), xuyên tâm (radial) ở tại cùng một thời điểm;

Có thể lựa chọn 3 chế độ đo: chế độ dọc trục (axial), chế độ xuyên tâm (radial), chế độ dọc trục và xuyên tâm tuần tự;

Bộ phận đưa mẫu:

 - Bao gồm một torch thạch anh, đế bằng polymer, dạng torch đứng, cơ chế tháo lắp torch đơn giản và hiệu quả cho phép hiệu chỉnh tự động torch và các kết nối khí nhằm khởi động nhanh và tăng hiệu năng; không cần chỉnh lại sau khi lắp torch. 

- Ống phun sương đồng tâm và buồng phun sương dạng xoắn ốc 2 lớp, kết nối với ống tiêm torch bằng kẹp cổ tròn giúp dễ dàng lắp đặt và bảo trì;

- Bơm nhu động được điều khiển hoàn toàn bằng máy tính, tốc độ từ 0 - 80 vòng/phút, 5 kênh cho mẫu, xả, chất chuẩn nội, và bộ hóa hơi MSIS;

Điều khiển khí:

- Tất cả lưu lượng khí liên quan đến plasma đều được điều khiển bằng máy tính, sử dụng bộ điều khiển dòng khối - Mass Flow Controller - MFC với độ chính xác cao:

+ Dòng khí plasma: 8 - 20 L/phút, mỗi bước tăng là 0,5 L/phút, cài đặt mặc định là 12 L/phút;

+ Dòng khí phụ trợ: 0 - 2,0 L/phút, mỗi bước tăng là 0,1 L/phút, cài đặt mặc định là 1,0 L/phút;

+ Dòng khí neubulizer: 0 - 1,5 L/phút, mỗi bước tăng 0,05 L/phút, cài đặt mặc định là 0,7 L/phút;

+ Dòng khí bổ trợ: 0 - 2,0 L/phút, mỗi bước tăng 0,1 lít/phút (dùng cho các phụ kiện lựa chọn thêm);

Nguồn phát RF:

- Nguồn phát trạng thái rắn tần số 27 MHz, dễ bảo trì và làm mát bằng nước. Công suất 750 - 1500W, mỗi bước tăng là 10W; 

- Thiết kế chống dao động, đáp ứng nhanh với sự thay đổi của plasma khi chuyển đổi giữa các mẫu có nền cao hoặc nền biến đổi;

- Hiệu suất ghép cặp 75%; Độ ổn định công suất phát tốt hơn 0,1%

Hệ thống quang học: 

- Hệ thống tiền quang học cho phép quan sát plasma ở chế độ dọc trục và xuyên tâm từ torch dạng đứng;

 - Chế độ plasma dọc trục với ưu điểm của bộ giao diện côn được làm lạnh (Cooled Cone Interface - CCI) ngăn cản phần đuôi plasma lạnh được đo từ hệ thống quang học. Điều này làm giảm nhiễu, tăng khoảng động học tuyến tính;

- Tiếp cận cửa sổ tiền quang học rất dễ dàng do đó thuận lợi cho việc bảo trì, bảo dưỡng;

 - Thiết kế quang học dạng Echelle được tối ưu hóa bằng máy tính, sử dụng một khe vào và tập trung hình ảnh Echelle trên đầu dò CCD;

 - Không có các chi tiết chuyển động trong hệ thống quang học để đảm bảo giới hạn phát hiện thấp nhất và độ ổn định cao nhất;

 - Dùng công nghệ tiên tiến nhất Freeform Colimating Mirror  (Công nghệ được NASA thường dùng) để đảm bảo >98% các bước sóng hiện hữu đi vào detector CCD; Công nghệ quang Freeform cho phép rút ngắn rất nhiều thời gian warm-up chỉ còn khoảng bằng một nửa so với nhiều hãng khác; Được ổn nhiệt ở 35°C để có độ ổn định tốt;

- Lăng kính CaF2 tán xạ ngang, cách tử echelle (113,3 cách tử /mm) tạo ra echellogram với 70 bậc được chiếu vào đầu dò CCD - đầu dò được thiết kế khớp với hình ảnh được tạo ra từ hệ quang echelle;

 - Khí làm sạch bộ đa sắc được điều khiển bằng bộ điều khiển dòng khối Mass flow controlled (Argon hoặc Nitơ) với bộ lọc được thay thế dễ dàng;

Đầu dò CCD

- Đầu dò VistaChip III tốc độ cao, phủ liên tục toàn bộ dải sóng, loại đầu dò CCD với tính năng chống tràn tín hiệu (anti-blooming) cho từng pixel;

 - Đầu dò được thiết kế không cần khí thổi sạch và được làm ấm nhanh, độ nhạy cao, hiệu suất cao và có khoảng động học tuyến tính lớn nhất;

 - Với công nghệ đồ họa hình ảnh I-MAP: các điểm ảnh nhạy quang được sắp xếp khớp với hình ảnh được tạo ra từ hệ thống quang học echelle;

 - Đầu dò đo phủ toàn bộ dải sóng từ 167-785 nm chiếu lên trên detector từ một khe truyền sáng;

 - Đầu dò được lắp trên bộ làm lạnh bằng điện Peltier 3 cấp và được làm lạnh đến  - 40oC cho dòng tối và nhiễu thấp;

 - Công nghệ tích hợp đáp ứng (Adaptive Integration Technology – AIT) cho phép đo đồng thời các tín hiệu cường độ lớn và tín hiệu vết với tỷ lệ tín hiệu/ nhiễu (S/N) tối ưu;

 - Tự động phân bố thời gian đọc điểm ảnh cho mỗi bước sóng được lựa chọn: peak cường độ lớn có thời gian lấy tín hiệu ngắn hơn và peak cường độ nhỏ có thời gian lấy tín hiệu dài hơn;

- Không giống các hệ thống ICP thông thường có các bước đọc tín hiệu tuần tự, công nghệ AIT cho phép đọc tín hiệu cùng lúc khiến phép đo là đồng thời thật sự;

 - Vistachip III với đặc điểm là có tốc độ đọc tín hiệu nhanh nhất so với bất kỳ đầu dò quang phổ CCD nào khác - tốc độ xử lý điểm ảnh là 1MHz. Tổng thời gian đọc cho tất cả các pixel phát sáng đồng thời trên đầu dò là 0,8 giây;

 - Đầu dò CCD với tính năng chống tràn tín hiệu trên mỗi điểm ảnh cho phép đo đồng thời các chất dạng vết dưới sự hiện diện của các chất với tín hiệu cường độ lớn;

 - Vistachip III được phủ kín, không cần khí argon thổi sạch để đạt được độ nhạy cao nhất trong khoảng phổ của vùng UV, điều này giúp giảm thời gian đánh lửa plasma để phân tích vì không tốn thời gian chờ thổi khí sạch cho đầu dò;

Hiệu năng của hệ thống

Thời gian cần để ổn định

 - Thời gian cần để ổn định từ chế độ standby là < 20 phút kể từ khi đánh lửa plasma;

Ánh sáng lạc

 - Loại bỏ ánh sáng lạc bằng vách ngăn và thiết kế quang học, đạt  < 1,0 ppm (khi đo tín hiệu As ở bước sóng 193,696 nm từ 10.000 ppm Ca);

Ổn định tín hiệu

 - Độ ổn định đặc trưng là nhỏ hơn 1% RSD trong thời gian hơn 8 giờ, không cần nội chuẩn cũng như không cần bất cứ hình thức hiệu chuẩn độ trôi nào;

Phần mềm điều khiển và phân tích dữ liệu

 - Phần mềm ICP Expert có giao diện thân thiện dạng bảng tính, dễ dàng phát triển phương pháp và các phần mềm ứng dụng bao gồm các phương pháp được cài đặt trước, tiết kiệm thời gian;

 - Sử dụng Window 10, 64 -bit;

- Dễ sử dụng, phần mềm ứng dụng thiết kế đặc biệt, tự động tải phương pháp đã được cài đặt trước cho phép người sử dụng bắt đầu phân tích ngay mà không cần phát triển phương pháp hay hiệu chuẩn;

 - Cho phép kiểm soát bằng máy tính PC các dòng khí plasma, vị trí quan sát plasma theo phương thẳng đứng, đánh lửa plasma, năng lượng RF, khóa liên động và các kiểm soát phụ trợ;

 - Lựa chọn kỹ thuật hiệu chỉnh đường nền từ kỹ thuật hiệu chỉnh nền truyền thống off-peak đến kỹ thuật FBC (Fitted Background Corection);

 - Công nghệ MultiCal cho phép mở rộng khoảng động học tuyến tính và tự động đánh giá kết quả;

- Kỹ thuật tự động khớp phổ nhanh - Fast Automated Curve-fitting Technique-FACTđể gỡ phổ phức tạp

- Kỹ thuật hiệu chỉnh tương tác giữa các nguyên tố - Inter Element Correction (IEC)

- Kỹ thuật chỉnh lại độ nghiêng đường chuẩn ( calibration reslopes ), giúp tiết kiệm thời gian do không phải làm lại toàn bộ đường chuẩn;

 - Dựng đường chuẩn thường quy đo ngoại chuẩn đa nguyên tố và phương pháp thêm chuẩn;

 - Người sử dụng có thể điều chỉnh quá trình kiểm soát chất lượng Quality Control Protocols (QCP) được thiết kế đáp ứng US EPA và các tiêu chuẩn quốc tế khác;

- Có chức năng IntelliQuant thu tất cả tín hiệu trong dải bước sóng của tất cả nguyên tố trong mỗi mẫu, cho phép đo sàng lọc định tính và đo bán định lượng nhanh tất các nguyên tố trong mỗi mẫu;

- Điều khiển hệ van tiên tiến Advanced Valve System ( AVS 4,6,7 ). Đây là các hệ van công tắc ( switching valves ) nhiều cổng giúp nâng cao công suất phân tích, tiết kiệm khí, kéo dài tuổi thọ đuốc plasma, buồng phun mẫu, vòi phun sương và ống bơm

 - Các yếu tố như trọng lượng, thể tích, hệ số pha loãng với sự chuyển đổi đơn vị, nồng độ được định nghĩa bởi người sử dụng cho mẫu và dung dịch chuẩn QC;

 - Vị trí các ống mẫu và khay cho autosampler có thể được điều chỉnh cho quá trình đưa mẫu ngẫu nhiên chính xác.

- Chức năng Neb Alert quan trắc liên tục áp suất của nebulizer, cảnh báo tắc và dò gỉ;

- Tính năng chẩn đoán hỏng hóc, đưa ra các cảnh báo, tự kiểm tra các bộ phận và mô đun của hệ thống;

 - Phần mềm tương thích với US FDA's 21 CFR Part 11 (lựa chọn thêm);